Alvo redondo de titânio

Um alvo de revestimento é uma fonte de pulverização catódica pulverizada sobre um substrato para formar filmes funcionais por pulverização catódica de magnetron ou outros sistemas de revestimento sob condições de processo apropriadas. Ou seja, o material alvo é o material alvo do bombardeio de partículas de energia de carga de alta velocidade, usado em armas de laser de alta energia, diferentes densidades de potência, diferentes formas de onda de saída, diferentes comprimentos de onda do laser e diferentes interações do material alvo, produzirão diferentes efeitos de morte e danos.

A fabricação de alvos de pulverização catódica de titânio inclui a preparação de pó de matéria-prima, pré-aquecimento, prensagem a quente, processamento e tratamento de superfície. A preparação de matérias-primas é a chave para garantir a qualidade dos alvos de pulverização catódica de titânio. O pré-aquecimento e a prensagem a quente são etapas importantes do processo para a fabricação de alvos de pulverização catódica de titânio, por meio das quais materiais uniformes e densos são obtidos para garantir as propriedades físicas e químicas dos alvos. O processamento inclui corte, conformação e polimento. O tratamento de superfície inclui limpeza, passivação, embalagem, etc.

Equipado com processo avançado, que tem maior durabilidade. Devido ao seu alto desempenho, o alvo redondo de titânio desempenha um papel importante em dispositivos de separação de semicondutores, telas planas, filmes de eletrodos de armazenamento, revestimento de peças de trabalho, indústria de revestimento de vidro, etc.

O alvo redondo de titânio tem uma ampla gama de usos devido à ampla lacuna de banda, baixa constante dielétrica e estabilidade de temperatura. O filme fino é preparado principalmente por pulverização catódica de magnetron, na qual o material alvo é uma importante matéria-prima básica no processo de revestimento por pulverização catódica. Equipado com excelente tecnologia de pulverização de plasma supersônica, ele tem uma alta temperatura de fonte de calor e uma atmosfera de ar inerte. A distância de pulverização é pequena. As partículas voam no jato de plasma em alta velocidade, menos propensas a serem oxidadas no meio, com vantagens para pulverizar pó de titânio facilmente oxidável.

Alto ponto de fusão: o ponto de fusão do titânio é de 1668 graus, portanto o alvo de titânio tem excelente desempenho em altas temperaturas.

Boa resistência à corrosão: o titânio tem boa resistência à corrosão e pode resistir à corrosão de ácidos, álcalis e outras substâncias químicas, por isso pode ser usado em galvanoplastia, eletrólise, revestimento a vácuo e outras indústrias.

Boa estabilidade: o titânio é mais estável quimicamente e pode manter um desempenho estável em ambientes de alta temperatura, alta pressão e gás inerte, portanto, pode ser usado para preparar alguns materiais em alta temperatura, alta pressão e gás inerte.

Boa condutividade elétrica: o alvo de titânio é um bom condutor elétrico, portanto pode ser usado para preparar componentes eletrônicos, células fotovoltaicas, dispositivos microeletrônicos, etc. Aplicação: Separação de semicondutores, materiais de revestimento de filme, revestimento de eletrodo de armazenamento, revestimento por pulverização catódica, revestimento de superfície, óculos, eletrônicos, optoeletrônica, tecnologia da informação, química, medicina e aeroespacial.

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