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Alvo de pulverização catódica de titânio de alta pureza

Item: Alvo de pulverização catódica de titânio de alta pureza
Material: Titânio de alta pureza
Dimensão: Dia63 x37mm, Dia100 x40mm
Aplicações: PVD, Coting, Semicondutor.
Palavra-chave: alvo de pulverização catódica para PVD
Técnica: Forjamento, Moagem.
Pureza: acima de 99,95%
Condições de pagamento: T/T à vista, L/C.
Normas: ISO 9001:2015, EN10204 3.1, MTC/EN10204 3.2

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Introdução de Produto

Descrição

Os alvos de pulverização catódica de titânio de alta pureza são usados principalmente nas indústrias de eletrônicos e informação, como circuitos integrados, armazenamento de informações, displays de cristal líquido, memórias a laser, dispositivos de controle eletrônico, etc. Também podem ser usados em materiais resistentes ao desgaste, alta temperatura e resistência à corrosão, suprimentos decorativos de alta qualidade e outras indústrias.

Características

Equipado com revestimento avançado de pulverização catódica de magnetron, que usa um sistema de canhão de elétrons para emitir e focar elétrons no material que está sendo revestido para que os átomos pulverizados sigam o princípio de conversão de momento e se desprendam do material com maior energia cinética. Comparado com produtos no mercado, nosso alvo de pulverização catódica de alta pureza adota tecnologias de pulverização catódica para materiais de filme fino. Ele usa os íons gerados pela fonte para acelerar a concentração em um vácuo para formar um feixe de íons de energia de alta velocidade, que bombardeia a superfície sólida, e os íons trocam energia cinética com os átomos da superfície sólida.

Nome do item	Pureza do titânio: 99,999%
Pureza	99.99%~99.995%
Forma	Redondo ou personalizado conforme sua solicitação
Tamanho disponível	1. Diâmetro redondo: 30-2000mm, espessura: 3.0mm-300mm 2. Placa: Comprimento: 200-500mm Largura:100-230mm Espessura: 3-40mm 3. Personalizado está disponível
Normas TQC	ISO9001:2008, SGS, O relatório de terceiros
Processador	Forjado e usinado em CNC
Superfície	Superfície de viragem.
Formulários
Aplicativo	Galvanoplastia, engenharia química e tecnologia petroquímica, indústria médica, separação de semicondutores, materiais de revestimento de filme, revestimento de eletrodo de armazenamento, revestimento por pulverização catódica, revestimento de superfície e indústria de revestimento de óculos. Aeroespacial (motores a jato, mísseis e espaçonaves), produtos militares, químicos e de petróleo, dessalinização e indústria de papel, automotiva, alimentos agrícolas, médica (membros protéticos, implantes ortopédicos e instrumentos e preenchimentos dentários), utensílios esportivos, joias e celulares, etc.

Componente químico

Item	N	C	H	Fé	O	Mês	Não	Resíduos Elemento	Máx. Total
Gr1	0.03	0.08	0.015	0.2	0.18	/	/	0.1	0.4
Gr2	0.03	0.08	0.015	0.3	0.25	/	/	0.1	0.4
Gr7	0.03	0.08	0.015	0.3	0.25	/	/	0.1	0.4
Gr12	0.03	0.08	0.015	0.3	0.25	0.2-0.4	0.6-0.9	0.1	0.4

Características

Pureza: a pureza é um dos principais índices de desempenho do material alvo porque a pureza do material alvo tem grande influência no desempenho do filme.

Na prática, porém, também há requisitos diferentes para a pureza do material alvo.

Conteúdo de impurezas: impurezas sólidas no material alvo e a porosidade de oxigênio e umidade são as principais fontes de filme de deposição. Diferentes usos do alvo têm diferentes requisitos para conteúdo de impurezas, por exemplo, em material de liga de alumínio e alumínio industrial semicondutor puro, o conteúdo de metal alcalino e o conteúdo de elemento radioativo têm requisitos especiais.

Quanto maior a pureza do alvo, melhor o desempenho do filme. Nosso alvo de pulverização catódica de titânio de alta pureza pode atingir a pureza de 99,995%.